香港理工學院專業人員近期開發出一種新型化學涂布引起關注。
這種涂布能夠暴露在陽光下，可以有效消除灰塵。這種涂布包含眾多二氧化鈦微粒，這些微粒的直徑小于20納米，可以幫助毀掉污處的碳分子。它的問世預示著自清洗服裝上市的時間已經不遠。
2005-01-20 00:00:00 來源：全球紡織網
香港理工學院專業人員近期開發出一種新型化學涂布引起關注。
這種涂布能夠暴露在陽光下，可以有效消除灰塵。這種涂布包含眾多二氧化鈦微粒，這些微粒的直徑小于20納米，可以幫助毀掉污處的碳分子。它的問世預示著自清洗服裝上市的時間已經不遠。
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